等离子体浸没式离子注入圆形薄片均匀性研究

摘要：

采用PIC(Particalincall)方法考察了等离子体浸没式离子注入工艺中,样品和靶台的几何尺寸、形状及防止溅射沾污的绝缘材料对于注入离子径向分布的影响.并对模拟结果进行了讨论分析.结果表明,影响剂量分布的主要因素是基片和靶台的横向尺寸,为改善等离子体浸没式离子注入均匀性的研究提供参考数据.

关键词：PIII、PIC、等离子鞘层

所属期刊栏目：8

分类号：TN305.3;O484(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：69-72