SOI技术的新进展

摘要：

通过对最近两次SOI国际会议的分析，综述了SOI技术取得的新进展。三种SOI技术SIMOX，Smart－cut和BESOI已走向商业化,在高温与辐射环境下工作的SOI电路也走向了市场。近来人们更加重视SOI技术，是因为SOI在实现低压、低功耗电路上的突出优越性。

关键词：SOI、SIMOX、Smart－cut、低压低功耗电路

所属期刊栏目：7

分类号：TN304.05(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1-6