10.3969/j.issn.1007-4252.2000.01.008
热处理对KTN薄膜结构和形貌的影响
本文用XRD、SEM等分析手段,对用Sol-Gel法制备的Gel膜在不同热处理条件下处理后的KTN薄膜进行分析.发现热处理的气氛、升降温速率、烧结温度对薄膜的结构和形貌影响很大,并对其的影响进行了分析讨论.在合适的热处理条件下,在SrTiO3(100,111)衬底上制备出了高取向、晶粒大小均匀、排列紧密、纯钙钛矿结构的KTN薄膜.
KTN、Sol-Gel热处理、钙钛矿结构、表面形貌
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TN304.9(半导体技术)
中国科学院资助项目59302015
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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