化学镀非晶态Pd膜制备工艺的优化研究

摘要：

采用化学镀方法施镀可获得致密吸附性好的单颗粒钯膜.通过对比不同试验条件,对化学镀钯膜的过程中所涉及到的工艺条件,包括施镀温度、施镀时间、pH值进行优化,结合SEM、XRD、EDS等分析手段对实验所得钯膜进行表征.实验表明,在温度为70 ℃,施镀时间2 h,NH4OH的浓度4.5 mol/L,pH值9.8的施镀条件下,得到膜厚约为0.6 μm非晶态合金镀层,具有良好的导电性、抗腐蚀性和硬度,结构致密不易破损脱落,并且其成分较纯,不含其它杂质.

关键词：化学镀、Pd膜、非晶态

所属期刊栏目：29

分类号：TG146.36(金属学与热处理)

资助基金：教育部留学归国人员科研启动基金FM080084;广西回国基金桂科回0639027

在线出版日期：2010-01-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：402-405