10.3969/j.issn.1673-808X.2000.03.009
铁电存储器及研究进展
铁电薄膜与半导体集成技术相结合而发展起来的铁电存储器,以其高密度、高速度、非挥发性以及抗辐射性而大大优于目前任何一种半导体存储器.本文介绍了铁电存储器的存储原理、特点、基本结构、研究进展、应用及存在的问题等.
铁电薄膜、铁电存储器FRAM、FFET、FDM、FDRAM
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O48(固体物理学)
国家科技预研项目30.2.5.1
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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