工艺参数对CrNx涂层性能的影响

摘要：

采用直流磁控溅射技术制备了氮化铬(CrNx)涂层,研究了制备CrNx涂层的工艺参数对所制备的CrNx涂层的膜基结合力及力学性能的影响.研究结果表明:工艺参数对CrNx涂层性能的影响不成各向同性关系;在较低的N2含量、较高的脉冲偏压、约100V的直流偏压、较高的真空度、较高的沉积温度和较高的靶功率下制备的CrNx涂层的硬度较高,而在较低的N2含量、恰当的脉冲偏压和占空比配对、较高的直流偏压、较高的真空度、较高的沉积温度和较高的靶功率下制备的CrNx涂层的表面形貌较好.

关键词：氮化铬(CrNx)、涂层、工艺参数、直流磁控溅射

所属期刊栏目：25

分类号：TB3;TQ1

资助基金：国家自然科学青年基金81201475;四川省教育厅自然科学青年基金14ZA0321

在线出版日期：2015-07-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：300-306