面向微加工的虚拟光刻系统建模与实现

摘要：

提出了一种面向微加工的虚拟光刻系统Litho3D.该系统采用傅立叶光学成像模型、光刻胶曝光及显影模型,实现了投影式光学光刻的三维模拟.它拥有标准的GDSII、CIF版图格式接口和支持各种光学参数(包括数值孔径、波长、离焦量,光刻胶厚度、表面折射率等)的模拟设置.模拟结果的显示采用了体绘制与网格相结合的方法,增强了结果的可视性.此外,光刻模拟结果可以直接导入到虚拟工艺系统ZProcess中作为刻蚀工艺的掩膜输入,实现了光刻工艺与其他微机电系统(MEMS)工艺模拟的无缝集成.一系列模拟结果验证了该系统的可行性.

关键词：微加工、光刻、虚拟工艺、工艺模拟

所属期刊栏目：19

分类号：TN3;TN2

资助基金：国家自然科学基金60674068;863计划2006AA04Z304;教育部"新世纪优秀人才支持计划"NCET-07-0464;天津市应用基础及前沿技术研究计划重点项目和南开大学科技创新基金Z06010-B1

在线出版日期：2009-04-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：76-81