一种新型的掩膜管理控制系统的研制

摘要：

研制了一种与掩膜光刻机相配套的新型掩膜管理控制系统.系统硬件由1个4自由度机械手、2个版库、粗预对准机构、精细预对准机构、PLC控制器和伺服驱动器等构成;系统软件由基于VC的上层管理程序以及基于梯形图的底层流程控制程序构成,其中上掩膜版和卸掩膜版是流程控制的主要组成部分.介绍了四象限光电探测器的对准工作原理和掩膜版的粗、精细预对准方法,实验测试了上、卸掩膜版的节拍,粗、精细预对准时间和掩膜版经过精细预对准后的重复定位精度,讨论了激光器和四象限光电探测器相对 位姿的标定方法,并指出了该系统的特点.实验结果表明,该系统性能稳定,主要指标能够满足掩膜光刻机的实际生产要求.

关键词：掩膜版、预对准、四象限光电探测器、控制系统、光刻机、梯形图

所属期刊栏目：17

分类号：TP3(计算技术、计算机技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2004AA420040;国家重点基础研究发展计划973计划2002CB312200

在线出版日期：2007-03-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：32-38