纳米多孔二氧化硅薄膜的制备及其光学性质研究

摘要：

以正硅酸乙酯(TEOS)为先驱体,采用溶胶-凝胶法,结合旋转涂胶和超临界干燥等工艺,在硅片上制备了纳米多孔SiO2薄膜.XRD和AFM表明该SiO2薄膜为无定形态,具有多孔网络结构,表面均匀平整,其SiO2基本粒子和孔隙的直径为30～40nm.利用椭偏光谱仪测量了SiO2薄膜在波长245～1650nm的椭偏光谱,采用Si/cauchy/rough结构模型对该光谱进行了拟合,获得了SiO2薄膜的厚度和光学常数.SiO2薄膜的厚度为500～1100nm;折射率为1.13～1.21;孔隙率为56%～70%;介电常数为1.9～2.3.

关键词：纳米多孔SiO2薄膜、溶胶-凝胶、低介电常数、椭偏光谱、光学性质

所属期刊栏目：15

分类号：TG149(金属学与热处理)

资助基金：武器装备预研基金41312040307

在线出版日期：2005-08-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：55-57