10.3321/j.issn:1002-0470.2001.09.022
掺铟LiNbO3晶体抗光折变效应增强机理的研究
在LiNbO3中掺进不同浓度的抗光折变杂质离子In3+,生长In(2mol%):LiNbO3和In(3mol%):LiNbO3晶体.研究In:LiNbO3晶体的结构和In3+离子在LiNbO3晶体中的占位,利用光斑变形法和全息法测试了In:LiNbO3晶体的抗光折变性能,分析了In3+使LiNbO3晶体抗光折变效应增强的机理.
In:LiNbO3晶体、抗光折变能力、光斑变形法和全息法
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TB3(工程材料学)
国家重点基础研究发展计划973计划G19990330
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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