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10.3321/j.issn:1002-0470.2000.08.009

光加热低压金属有机化学气相淀积生长AlGaN

引用
采用光加热低压金属有机化学气相淀积方法成功地制备出高质量的、组分均匀的AlGaN外延层.结果表明,铝和镓的并入效率基本相等,这有别于其他研究报道.此外,建立了铝相对镓的并入效率与气相预反应之间的关系模型,它表明,光加热对预反应有较大的影响.结合GaN的生长可以看出,光加热有利于抑制预反应,从而有利于提高样品质量和铝组分的均匀性.

AlGaN、GaN、金属有机化学气相淀积、气相寄生反应

10

O6(化学)

新材料领域项目;中国科学院资助项目

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

34-36

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1002-0470

11-2770/N

10

2000,10(8)

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