10.3321/j.issn:1002-0470.1998.08.008
高纯氮化镓外延材料的制备
用MOVPE方法在蓝宝石衬底上生长了高纯氮化镓(GaN)外延材料.未掺杂GaN显n型,室温下(300K)背景电子浓度为1.6×1017cm-3,电子迁移率为360cm2/V.s.在195K附近电子迁移率达到峰值,为490cm2/V.s.发现了该材料中存在深施主能级,其离化能约为38meV.
高纯、MOVPE、GaN
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TB3(工程材料学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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