10.3969/j.issn.1004-0676.2000.04.006
Co/Pt多层膜的结构和饱和磁化强度
采用离子束溅射技术制备Co/Pt多层膜,用RBS、小角XRD和断面TEM研究了多层膜的周期性调制结构,用VSM研究了磁性层Co和顺磁性层Pt的厚度变化对饱和磁化强度的影响.结果表明,多层膜具有良好的周期性层状结构,和设计值一致.样品的饱和磁化强度(Ms)随Co层厚度增加而增大,随Pt层的厚度增大而减小.当Co层和Pt层的厚度比一定时,样品的饱和磁化强度不受周期数的影响,符合Ms=Mcotco/D模型.
离子束溅射、Co/Pt多层膜、饱和磁化强度
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TG146.3+3(金属学与热处理)
云南省应用基础研究项目96E0102
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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