期刊专题

10.3788/OMEI 20112801.0023

ODF工艺的进展

引用
综述了近年来液晶滴下(ODF)工艺的进展.主要围绕ODF工艺的基本原理、关键材料、设备特点进行了介绍;并结合传统真空灌注(FILLING)工艺,阐述了ODF工艺的优点,展望了ODF工艺未来的发展方向.

LCD、ODF、液晶

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TN873.93(无线电设备、电信设备)

2011-04-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

23-27

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光机电信息

1007-1180

22-1250/TH

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2011,28(1)

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