低成本三维硅贯通布线工艺问世
@@ 日本早稻田大学发布了能够利用硅通孔(TSV)布线以低成本制造三维积层LSI的工艺.
布线工艺、低成本
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TN405.97;TP368.1;U463.62
2008-09-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共1页
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布线工艺、低成本
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TN405.97;TP368.1;U463.62
2008-09-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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