闭磁场非平衡磁控溅射在光学薄膜中的应用

摘要：

介绍了一种制备高质量光学薄膜的新型闭磁场磁控溅射技术.该技术具有高束流密度和低内应力,可以在高沉积速率条件下制备性能极佳的精密光学薄膜.采用精密的单轴圆鼓基板系统,可显著提高批量镀膜的能力.

关键词：闭磁场、光学薄膜、磁控溅射

所属期刊栏目：24

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

在线出版日期：2007-11-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：34-37