用光刻工艺生产近红外三维光子晶体
三维光子晶体、光刻工艺、近红外、工艺生产
O436;TN305.7;TN25
2006-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共1页
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三维光子晶体、光刻工艺、近红外、工艺生产
O436;TN305.7;TN25
2006-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号：2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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