期刊专题

10.3969/j.issn.1007-1180.2002.08.003

157nm光刻面临的各种挑战

引用
@@ 硅谷集团于1998年开始了一项极具挑战性和风险性的研究工作-157nm光刻的研究.在该项研究中,硅谷集团与工业界专家们建立了伙伴关系,其目的旨在寻求战胜这些挑战的合适方法.这些合作研究涉及157nm光刻的各方面问题,其中包括支撑曝光设备所需要的基础研究,例如光刻胶、光掩模(掩模母版)和先进的计量测试技术等.

光刻面

TN2(光电子技术、激光技术)

2006-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

16-19

暂无封面信息
查看本期封面目录

光机电信息

1007-1180

22-1250/TH

2002,(8)

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn