10.3969/j.issn.1007-1180.2002.08.003
157nm光刻面临的各种挑战
@@ 硅谷集团于1998年开始了一项极具挑战性和风险性的研究工作-157nm光刻的研究.在该项研究中,硅谷集团与工业界专家们建立了伙伴关系,其目的旨在寻求战胜这些挑战的合适方法.这些合作研究涉及157nm光刻的各方面问题,其中包括支撑曝光设备所需要的基础研究,例如光刻胶、光掩模(掩模母版)和先进的计量测试技术等.
光刻面
TN2(光电子技术、激光技术)
2006-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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