10.3969/j.issn.1007-1180.2002.06.004
微电子工业中的一种新型激光调修技术
新型激光调修技术与常规的CMOS处理方法完全兼容.用这种方法既可以调修模拟器件,也可以调修模拟和数字混合的微电子器件.该方法是用一束激光烧熔硅体,使两个p-n结二极管之间形成电连接而产生一个电阻器件.在自动设备系统中,1s内就可生产出这种激光扩散电阻,其阻值范围从100Ω到几MΩ,激光的重复调修过程可使电阻精度达到50ppm.用这种方法也可做出温度系数接近0的电阻.本文主要阐述生产这种电阻的方法、主要器件和有关处理方式的关键点.
微电子工业、cmos、温度系数、二极管、微电子器件、光扩散、处理方式、关键点、扩散电阻、电阻精度
TN2(光电子技术、激光技术)
2006-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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