下一代光刻候选技术:极紫外光刻

摘要：

紫外光刻被认为是经典光刻的潜在替续者,本文给出几种典型的具有现代水平的设计,着重介绍环场投影系统的设计特色,讨论了某些新设计的投影系统的特殊性质.

机标关键词：极紫外光刻、下一代光刻、投影系统、设计特色、特殊性质、新设计

分类号：TN305.7;O436;TN405

在线出版日期：2006-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：8-11