10.3969/j.issn.1007-1180.2000.07.008
掺锰p-GaSe层状半导体的辐射中心
@@ 采用光致发光(PL)测量法研究了掺锰(0.1~1 at.%)GaSe的发射带,根据PL强度与温度的关系曲线、峰值能量与锰浓度的函数关系和激发光谱得出,1.82 eV发射带是因导带至受主能级(在价带以上0.30 eV)的跃迁引起的.
层状半导体、辐射中心、p-gase
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O4(物理学)
2006-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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