X射线光刻技术的现状

摘要：

@@ 1概述
X射线光刻技术(XRL)是刻制130 nm,100 nm和70 nm最小尺寸图形的可行方案之一.其它候选技术还有193 nm ArF准分子激光光刻、电子束投影、电子束直接写入、极紫外(EUV)及离子束投影光刻等.然而,在各种技术之中,由于XRL具有良好的临界尺寸控制及可扩展到刻制70 nm以下最小尺寸图形等优点而处于领先地位.

机标关键词：x射线光刻技术

所属期刊栏目：17

分类号：TN2(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2006-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：18-20