新型中位取代七甲川菁染料的合成及光稳定性研究

摘要：

本文合成了两种新型中位取代近红外七甲川菁染料,采用核磁1 HN-MR和HRMS质谱对其结构进行了表征,并测试了染料在不同溶剂中的吸收光谱和荧光发射光谱性质.染料3b、3c在甲醇中的最大吸收波长和最大荧光发射波长分别为677/790 nm和647/786 nm,斯托克斯位移分别为113 nm、139 nm,经过光降解实验测试得到3种染料3a—3c在乙醇中的光降解速率常数分别为1.21×10-3 mol/min、1.81×l0-3mol/min和2.14×103mol/min.循环伏安法测得染料3a—3c的氧化电位分别在0.729 V、0.624V和0.598V.光降解实验表明:七甲川菁染料中位亚甲基链上吸电基取代增强染料光稳定性,供电基取代减弱染料的光稳定性；供-吸电子能力强弱决定了染料的光稳定性强弱；同时中位氯原子取代与共轭链上的氢键作用有利于染料的稳定性增强,中位氮原子取代无法形成很好的氢键作用,不利于染料稳定性的提高.

关键词：七甲川菁染料、近红外、吸收光谱、荧光光谱、光稳定性、合成、标记

所属期刊栏目：30

分类号：O64(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目20706026;中央高校基本科研业务费专项资金JUSRP211A12,JUSRP21110

在线出版日期：2012-11-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：375-383