ArF激光光致抗蚀剂的研究进展

摘要：

本文对近10年来有关ArF激光(193 nm)光致抗蚀剂的研究开发情况进行了调研,对193 nm光致抗蚀剂组成物的各个组分进行了归纳综述.从本文可以看出,利用193 nm成像技术可以刻画线幅很细(＜0.13 μm)的图像,能适应信息技术的发展对于光致抗蚀剂高分辨率的要求.但若想将193 nm成像技术在实践中推广应用,还有诸多问题需待研究解决.

关键词：ArF激光、光致抗蚀剂、化学增幅、矩阵树脂、光产酸源

所属期刊栏目：21

分类号：O64(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共11页

页码：61-71