全息微光刻中全息掩模衍射特性的理论研究

摘要：

通过耦合波理论分析,使用矩阵转换方法,对全息光刻中全息掩模衍射效率进行数值模拟计算,得出了影响全息掩模衍射特性的因素主要是显影前后记录材料平均介电常数的改变、介质的膨胀与收缩以及非共轭再现等,为实验研究提供了理论依据.

关键词：全息光刻、耦合波理论、衍射特性、光刻技术

所属期刊栏目：17

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金69776028

在线出版日期：2005-01-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：67-71