反射式光耦的CTR工艺控制

摘要：

文章介绍了光电耦合器结构及其CTR参数,分析红外发光芯片和光敏接收芯片对光耦CTR值影响,重点讨论了工艺上内点胶操作与CTR的关系,提出了内点胶操作所形成光学通道的椭圆模型理论和各种点胶方式,并用实验进行验证和说明.最后总结出在生产过程中控制CTR值的芯片配对方案和工艺操作方法.

关键词：光耦、CTR、工艺、芯片、点胶

所属期刊栏目：17

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2004-11-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：21-25