用双光束激发改进纳米Si3N4激光合成工艺
氮化硅(Si3N4)是优良的陶瓷材料,应用十分广泛.本文论述了激光诱导化学气相沉积法制备纳米Si3N4的工作原理,提出了减少游离硅的措施,采用双光束激发制备得到了超微的、非晶纳米Si3N4粉体.
激光诱导化学气相沉积、纳米Si3N4、双光束激发
16
O644.18;TQ127.2(物理化学(理论化学)、化学物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
25-27
激光诱导化学气相沉积、纳米Si3N4、双光束激发
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O644.18;TQ127.2(物理化学(理论化学)、化学物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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