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用双光束激发改进纳米Si3N4激光合成工艺

引用
氮化硅(Si3N4)是优良的陶瓷材料,应用十分广泛.本文论述了激光诱导化学气相沉积法制备纳米Si3N4的工作原理,提出了减少游离硅的措施,采用双光束激发制备得到了超微的、非晶纳米Si3N4粉体.

激光诱导化学气相沉积、纳米Si3N4、双光束激发

16

O644.18;TQ127.2(物理化学(理论化学)、化学物理学)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

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34-1138/TN

16

2003,16(3)

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