一种新型光刻系统的研究
介绍了一种新型的光刻系统-全内反射全息光刻系统.着重讨论了设计该系统时的几个重要因素,给出了用该系统开展的实验研究结果.
全息光刻、全内反射(TIR)全息
14
TN2(光电子技术、激光技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
22-25
全息光刻、全内反射(TIR)全息
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TN2(光电子技术、激光技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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