磁控射频溅射法制备光波导薄膜研究
采用磁控射频溅射法制备了用作光波导器件的玻璃薄膜.通过选取不同的溅射材料,在不同溅射条件下制备的玻璃薄膜的光学参数进行的测量、比较,并对其作为光波导的性能进行研究,通过理论上推导与计算,得出了在1.55μm窗口下制备光波导器件的玻璃薄膜所应具备的溅射条件.
玻璃薄膜、磁控溅射、光波导
14
TN25(光电子技术、激光技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
27-29,34
玻璃薄膜、磁控溅射、光波导
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TN25(光电子技术、激光技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
27-29,34
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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