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磁控射频溅射法制备光波导薄膜研究

引用
采用磁控射频溅射法制备了用作光波导器件的玻璃薄膜.通过选取不同的溅射材料,在不同溅射条件下制备的玻璃薄膜的光学参数进行的测量、比较,并对其作为光波导的性能进行研究,通过理论上推导与计算,得出了在1.55μm窗口下制备光波导器件的玻璃薄膜所应具备的溅射条件.

玻璃薄膜、磁控溅射、光波导

14

TN25(光电子技术、激光技术)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

27-29,34

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34-1138/TN

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