期刊专题

10.19453/j.cnki.1005-488x.2022.03.011

双层有源氧化物IGZTO TFT的光照特性研究

引用
研究了 一种双层有源层的氧化物IGZTO TFT器件在光照下的特性,对比单层有源层的氧化物TFT,这种双层有源层的氧化物上层比较稳定,光照下产生的光生空穴与 自由电子复合的数量大大减少,起导电作用的空穴载流子较多,故表现出了较大幅度的电流提升.进一步的研究展示了这种双层有源氧化物TFT在不同光照条件下的特性曲线,可为光敏器件提供不同的应用场景.

双层有源层、铟镓锌锡氧化物、薄膜晶体管、光照特性

42

TN141(真空电子技术)

2022-11-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

218-221

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

光电子技术

1005-488X

32-1347/TN

42

2022,42(3)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn