光掩膜版衍射条纹不良研究及改善分析

摘要：

基于衍射条纹的产生机理,从图形设计和腔室环境方面提出改善措施,设置不同的重叠区与图形重叠占比、不同的重叠区位置类型以及不同腔室温度和相对湿度波动,观察版材的衍射条纹变化.试验表明,随着重叠区与图形重叠比例的增加,其衍射条纹不良的严重程度逐渐增加;与混合重叠区位置类型相比,采用单一重叠区位置类型在衍射条纹上表现更佳;腔室温度波动超过0.01℃、相对湿度波动超过32％时,聚焦气流波动超标,衍射条纹不良明显变严重.通过管控图形设计和光刻温湿度,在一定程度上可以降低衍射条纹的发生,对于其他条纹不良的改善也有一定的借鉴意义.

关键词：光掩膜版、衍射条纹、不良重叠区、位置类型、温湿度

所属期刊栏目：42

分类号：TN209(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2022-04-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：22-27