一种低使用成本的高精度曝光和测量技术

摘要：

提出了一种使用小尺寸MASK(光罩)的高精度曝光技术,能够实现1.5 μm分辨率,几乎可以忽略的MASK成本.同时以曝光控制技术为基础,提出了一种快速进行TP/OL/CD精确测量的技术,为降低国产设备的测量使用成本提供了研究方向,同时提高了国产屏的性价比,可大幅降低单点测量时间和测量成本.

关键词：曝光、长寸、测量、光罩、精度、成本

所属期刊栏目：39

分类号：TP23;TH744(自动化技术及设备)

在线出版日期：2019-11-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：210-214