TiN薄膜制备方法、性能及其在OLED方面应用的研究

摘要：

基于磁控溅射法制备用于OLED器件阳极的TiNx薄膜电极.研究了N2流量和溅射功率对TiNx薄膜电阻率和反射率的影响.采用四探针、光学光度计、SEM等测试手段对TiNx薄膜进行了表征.结果表明,TiNx薄膜电阻率为35.6μΩ·cm时性能最佳,制作的OLED器件在5V电压下亮度可到22 757 cd/m2.

关键词：氮化钛、有机电致发光、电极

所属期刊栏目：38

分类号：TN27(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2018-11-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：190-194