电容触摸屏ITO消影膜的设计与制备

摘要：

设计光学薄膜改善ITO图案,匹配出各个膜层合适的物理厚度,采用直流磁控溅射和双靶中频反应磁控溅射制备ITO消影膜.经过对样品的测试和实际效果对比,证明了所设计的ITO消影膜不仅能有效改善ITO图案明显的问题,在可见光范围内还可以使透过率变均匀,提高显示效果.

关键词：ITO玻璃、反射率、消影膜、Nb2O5|SiO2 光学薄膜

所属期刊栏目：34

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金项目11274220;广东省“扬帆计划”引进紧缺拔尖人才项目

在线出版日期：2015-01-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：269-272,277