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10.3969/j.issn.1005-488X.2003.01.008

化学气相沉积TiO2薄膜的XPS研究

引用
通过XPS分析了TiO2薄膜的结构.薄膜是通过化学气相沉积的方法生长,有机源遇热发生分解,沉积在硅衬底上形成TiO2薄膜.XPS分析表明:所得TiO2薄膜含有Ti、C、O、Al、Si元素.各元素的电子结合能与理论值并无太大的偏移,说明通过化学气相沉积法制备的TiO2薄膜,纯度高,质量好,晶型为锐钛矿.

TiO2、化学气相沉积、X射线光电子能谱

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TN304.2+1(半导体技术)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

35-37,45

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光电子技术

1005-488X

32-1347/TN

23

2003,23(1)

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