期刊专题

10.3969/j.issn.1005-488X.2003.01.005

多孔硅M/PS结的研究

引用
对不同金属形成的M/PS/Si/Al结构样品进行测试,发现其I-V特性曲线具有相似的形状,区别仅在于高偏压下的串连电阻不同,通过进行表面态对M/PS影响的分析可知M/PS具有欧姆行为特性.

多孔硅、I-V特性

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O472+.8(半导体物理学)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

24-26

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光电子技术

1005-488X

32-1347/TN

23

2003,23(1)

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