10.3969/j.issn.1005-488X.2003.01.005
多孔硅M/PS结的研究
对不同金属形成的M/PS/Si/Al结构样品进行测试,发现其I-V特性曲线具有相似的形状,区别仅在于高偏压下的串连电阻不同,通过进行表面态对M/PS影响的分析可知M/PS具有欧姆行为特性.
多孔硅、I-V特性
23
O472+.8(半导体物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
24-26
10.3969/j.issn.1005-488X.2003.01.005
多孔硅、I-V特性
23
O472+.8(半导体物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
24-26
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn