10.3969/j.issn.1005-488X.2001.01.006
厚膜光刻工艺在PDP中的应用
简要介绍了表面放电型ACPDP制作工艺中电极、障壁和荧光粉的厚膜光刻技术,并对这些工艺中所存在的一些问题进行分析和讨论.
PDP、厚膜、光刻、感光性浆料
21
TN873+.94(无线电设备、电信设备)
2005-01-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
39-44
10.3969/j.issn.1005-488X.2001.01.006
PDP、厚膜、光刻、感光性浆料
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TN873+.94(无线电设备、电信设备)
2005-01-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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