10.3969/j.issn.1005-488X.2000.02.006
用于FEA场发射微尖表面的硅化物薄膜
一些硅的化合物具有良好的场发射特性,如果用作FEA发射微尖表面的薄膜,将能较好地提高FEA的发射特性.本文对这一类硅化物的制作、测量与性能作了说明.
硅化物、FEA、特性、薄膜、场致发射
20
TN2(光电子技术、激光技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
111-115
10.3969/j.issn.1005-488X.2000.02.006
硅化物、FEA、特性、薄膜、场致发射
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TN2(光电子技术、激光技术)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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