10.3321/j.issn:0251-0790.2008.05.014
新型水溶性荧光标示剂吲哚方酸菁染料的合成及光谱性能
用方酸与不同的N烷基取代吲哚啉季铵盐缩合制备了一系列对称的水溶性方酸菁染料. 通过核磁共振氢谱和质谱对合成的染料结构进行了表征, 研究了它们在不同溶剂中的吸收和发射光谱. 结果表明, 随着溶剂极性的增大, 染料的吸收光谱发生蓝移, 表现为负向溶剂化效应, 在极性溶剂中的荧光量子产率比在水中的大. 考察了N位取代基对染料水溶液光稳定性的影响, 结果表明在吲哚环N原子上引入较大的苄基有助于提高光稳定性, 且随着苄基上取代基吸电子能力的增强, 染料的光稳定性增强.
方酸、菁染料、水溶性、光稳定性
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O626.32(有机化学)
国家自然科学基金20376010, 20472012
2008-07-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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