基于通带扩展的超宽带减反射膜制备技术

摘要：

现代综合性光学仪器往往是一机多用,光学系统的工作波段可能要覆盖紫外、可见、微光、近红外、短波红外甚至中、远红外等.这样的光学系统往往比较复杂,涵盖光学零件类型较多,镜面累计光能损失、杂散光现象严重,光能的损失及杂散光的传播,造成了像的亮度降低,像的衬度降低,像的分辨率下降,为了获得良好的光学系统性能,需要在其光学零件表面镀制超宽带减反射膜.而这种膜系通常需要较多的层数和较多种膜料的组合才能实现,设计和镀制难度都很大.文中提出了一种利用通带扩展方法设计超宽带减反射膜,选用Ta2O5、SiO2两种膜料组合,实现了0.42～0.9μm,Rave≤1.6％,1.064±0.01μm,Rave≤1％,1.57±0.01μm,Rave≤1％,超宽光谱区域减反射效果,镀制膜层质量满足JB/T8226.1-1999检测标准.

关键词：光学薄膜、减反射膜、通带扩展、周期

所属期刊栏目：33

分类号：O436(光学)

在线出版日期：2018-10-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：25-30