AOTF器件制作中光刻工艺的研究

摘要：

对在LiNbO3晶体基片上制作声光可调谐滤波器(AOTF)光刻工艺参数的确定进行了研究.着重研究了匀胶机转速、曝光时间和显影时间对光刻效果的影响.通过大量的实验得到了较好的光刻工艺参数,即在低速2850/8(rpm/s)和高速6000/25(rpm/s)的转速下取得较均匀的光刻胶后,在90℃下前烘30 min,再经过10 s曝光和10 s显影,最后再经过30 min的100℃后烘,可得到较好的光刻图样.经过显微镜观察,光刻好的图形表面洁净,侧壁陡直光滑,图形质量较好.

关键词：AOTF、光刻工艺、匀胶、曝光、显影

所属期刊栏目：22

分类号：TN205(光电子技术、激光技术)

资助基金：浙江省科技计划2005C21010

在线出版日期：2007-11-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：77-80