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10.3969/j.issn.1001-3539.2022.03.026

纳米二硫化钼制备及对PA66的改性

引用
以实验室合成的三氧化钼纳米带为前躯体,采用传统的溶剂热制备法,制备纳米二硫化钼(MoS2)材料,并通过向反应溶剂中添加不同种类的修饰剂进行优化.分别以阴离子表面活性剂十二烷基苯磺酸钠(SDBS)、阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、非离子型表面活性剂聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为修饰剂在合成过程中对纳米MoS2进行优化,探究修饰剂类型对纳米MoS2材料形貌及结构的影响,最后将PVP修饰的纳米MoS2(P-MoS2)材料作为塑料改性剂应用到尼龙(PA)66上,研究其对PA66塑料耐磨及热力学性能的影响.采用X射线衍射、扫描电子显微镜、傅立叶变换红外光谱等手段对材料进行形貌及结构分析,以探究不同修饰剂及配比对产物结构形貌的影响.结果表明,纳米P-MoS2材料粒径均为50 nm左右,颗粒大小均匀,具有很好的分散性,而未添加修饰剂、添加CTAB和SDBS两种修饰剂形成的MoS2纳米粒子颗粒存在聚集现象.结果表明,其纳米P-MoS2改性PA66的耐磨性能随着纳米P-MoS2添加量增大而逐步提高,在纳米P-MoS2质量分数为9%时,PA66的耐磨性能最佳.随着纳米P-MoS2含量的增加,PA66的拉伸强度、弯曲强度、热变形温度逐步提高,同时断裂伸长率和缺口冲击强度逐步下降.

纳米MoS2;修饰剂;分散度;尼龙66;改性

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TQ327

2022-03-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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1001-3539

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