10.3969/j.issn.1004-4957.2009.05.010
铕离子掺杂类普鲁士蓝复合汞膜电极的制备及溶出分析特性
在铕离子掺杂类普鲁士蓝(Eu-PB)修饰的玻碳电极表面电沉积汞膜,制备了一种新型化学修饰复合汞膜电极GC/Eu-PB/MFE.研究了修饰层厚度、镀汞方式和汞膜成长过程对复合汞膜形成的影响.以Pb2+和Zn2+为探针离子,对复合汞膜电极和常规玻碳汞膜电极的氢过电位值、表面活性物质的影响、汞膜稳定性和金属离子的溶出伏安行为等进行了对比研究.同时,应用该电极结合示差脉冲阳极溶出伏安法对环境水样中的痕量Pb2+进行了测定.结果表明,Pb2+在该复合汞膜电极上的阳极溶出峰电流与其质量浓度在0.8 ~250 μg/L范围有良好的线性关系(r=0.999 5,n=12),检出限为0.2 μg/L,加标回收率为98% ~102%.用该法对国家铅标准物质溶液对比测定,数据的重复性和准确性均令人满意.
化学修饰电极、复合汞膜电极、类普鲁士蓝、溶出分析特性、铅
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O657.15;O614.433(分析化学)
甘肃省自然科学中青年基金资助项目2007GS03596
2009-06-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
555-559,563