10.3969/j.issn.1004-4957.2009.01.005
氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的光电子能谱研究
利用X射线光电子能谱(XPS)及氩离子刻蚀技术,原位研究了氩离子轰击对三氧化钨纳米线薄膜的还原作用,钨的价态由+6价逐渐被还原为0价,并获得了具有多价态结构的氧化钨薄膜.通过对实验结果的分析,定性描述了氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的原理,认为择优溅射在整个还原过程中起着关键作用.
氧化钨、纳米线、光电子能谱、氩离子轰击
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O485;O657.62(固体物理学)
国家自然科学基金资助项目50572123;广东省自然科学基金资助项目8151027501000076,06023084;中山大学青年教师科研启动基金资助项目2005050401131070
2009-05-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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