电解锰表面铈/硅烷复合钝化膜的制备及其耐腐蚀性能

摘要：

以硅烷偶联剂KH550 和硝酸铈混合溶液为钝化液,通过浸泡法在电解锰表面成功制备了铈/硅烷复合钝化膜,并采用极化曲线、电化学阻抗谱、扫描电子显微图像(SEM)、衰减全反射傅里叶红外光谱(ATR-FTIR)及 X射线光电子能谱(XPS)等对铈/硅烷复合钝化膜进行表征和分析.结果表明:电解锰腐蚀电位从钝化前的-1.364 V 升高到钝化后的-1.225 V,腐蚀电流密度从 3.58×10-5 A/cm2 降低到 1.91×10-6 A/cm2,极化电阻从 461.18 Ω·cm2 升高到 4706 Ω·cm2,电流阻碍效率达到了 94.66％,所制备的钝化膜可显著提高电解锰的耐腐蚀性能.

关键词：电解锰、硅烷偶联剂KH550、硝酸铈、钝化膜、耐腐蚀性能

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分类号：TG174.4(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金;广西自然科学基金重点项目;广西科技重大专项;广西高等学校高水平创新团队;卓越学者计划资助项目

在线出版日期：2023-04-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：25-32,81