Si-TiO2膜的制备及其光生阴极保护性能

摘要：

采用溶胶凝胶法和浸渍提拉法在304不锈钢(304SS)表面制备了Si-TiO2薄膜,通过扫描电子显微镜(SEM)、X-射线衍射(XRD)对膜层的形貌和晶型进行了观察,分析了烧结方式、烧结温度、薄膜厚度对Si-TiO2薄膜性能的影响,并通过紫外可见吸收光谱(UV-Vis)、荧光光谱、光电化学响应曲线研究了Si-TiO2薄膜的光电响应特性和光生阴极保护性能.结果表明:在500℃条件下采用逐层烧结方式制备的三层Si-TiO2薄膜具有最佳的光电性能.掺入Si元素增强了TiO2薄膜对紫外光的吸收,抑制了光生电子-空穴的复合,从而产生更多的光生电子,增强了对基体材料304SS的保护.Si-TiO2薄膜在紫外光照射下使304SS的电极电位负移至-650 mV(SCE),起到了明显的光生阴极保护作用.

关键词：溶胶凝胶法、Si-TiO2薄膜、光生阴极保护

所属期刊栏目：39

分类号：TG174(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金51401185

在线出版日期：2018-05-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：174-177,206