不同电压下镁合金的微弧氧化行为

摘要：

为了解电压在镁合金微弧氧化中的作用，本工作在双极性脉冲电源的恒流加载方式下，通过考察电压对氧化时间、膜层厚度及表面形貌的影响，研究电压对微弧氧化机理的影响。结果发现，当负电压为零，占空比20％和30％时，电压低于380V时所需的氧化时间要短于电压高于380 V时的氧化时间。当占空比30％，负电压为零和40 V时，电压低于340 V的氧化时间和膜层增长速率都小于电压高于340 V的；电压低于340 V时的膜层表面形貌优于340 V以上膜层。可见，微弧氧化过程中存在一个临界电压，微弧氧化过程分成两种情况，两种情况的微弧氧化机理不尽相同。

关键词：镁合金、微弧氧化、脉冲电源、氧化时间、临界电压

所属期刊栏目：32

分类号：TG174.45(金属学与热处理)

资助基金：甘肃省科技重大专项资助项目0702GKDA024

在线出版日期：2011-12-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：363-365,387