10.3969/j.issn.1000-8098.2011.01.008
低温可膨胀石墨的制备
本实验以HClO4/NaBrO3/KMnO4/CrO3/FeCl3为氧化插层体系制备低温可膨胀石墨,研究了氧化插层试剂对膨胀容积的影响.其最佳工艺条件是在常温下反应40min,石墨、高氯酸、溴酸钠、高锰酸钾、三氧化铬、三氯化铁的最佳质量比为1∶4∶0.15∶0.15∶0.13∶0.03,制得的可膨胀石墨在220℃时膨胀容积为201 mL/g.实验中还用X射线衍射法研究了插层反应对石墨结构的影响.
低温、可膨胀石墨、膨胀容积、制备
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TQ127.1
2011-04-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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26-28,32