10.3969/j.issn.1000-8098.2001.06.006
硅灰石合成高比表面积多孔二氧化硅及其表征
硅灰石与盐酸反应合成高比表面积多孔SiO2的工艺条件为:pH值≤1.5,添加剂为聚乙二醇和NH4Cl,反应后体系中和到pH=4.0,经固液分离,烘干,650~750℃灼烧2h得产物.产物比表面积479±45m2/g,表观密度0.34±0.03g/cm3,DBP吸着率173±16ml/100g,平均中位径D50为6.9±0.5μm,孔径分布集中在1~2nm.
硅灰石、多孔SiO2、比表面积、性质
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TQ17
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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