溅射功率和工作气压对磁控溅射铬薄膜光电学性质的影响

摘要：

采用直流磁控溅射方法在石英基片上沉积铬薄膜.研究溅射功率、工作气压对铬薄膜结构、电学和光学性质的影响.利用X射线衍射仪、分光光度计和Van der Pauw方法分别检测薄膜的结构、光学和电学特性,利用德鲁特模型和薄膜的透射、反射光谱计算薄膜的厚度和光学常数.结果表明:制备的铬薄膜为体心立方的多晶态；在工作气压0.6Pa一定时,随着溅射功率从40 W增加到120W,沉积速率呈非线性增加,薄膜更加致密,电阻率连续降低,在550 nm波长处,薄膜的折射率从3.52增大到功率80 W时的最大值(3.88),尔后逐渐减小至3.69；消光系数从1.50逐渐增大到2.20；在溅射功率80 W一定时,随着工作气压从0.4 Pa增加到1.2Pa,沉积速率呈近线性降低,薄膜的电阻率逐渐变大,在550 nm波长处,折射率从3.88减小到3.62,消光系数从2.55减小到1.48.

关键词：磁控溅射、铬薄膜、溅射功率、工作气压、光电学性质

所属期刊栏目：28

分类号：O484.4(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目11074041;宁德师范学院服务海西建设项目2011H208,2010H301

在线出版日期：2012-11-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：52-57